테스칸 앰버 엑스
Advanced Semiconductor
지연 처리
지연을 위한 테스칸 앰버 엑스
유니폼
지연
![21d](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/21d.png?width=125&height=154&name=21d.png)
10nm 미만 기술 노드에 최적화된 맞춤형 나노플랫 체이스 및 C-메이즈 가스 화학을 활용하여 아티팩트 없는 일관된 지연을 달성하세요.
장치
무결성
![18](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/18.png?width=131&height=131&name=18.png)
섬세한 취급을 위해 불활성 Xe 이온을 사용하는 당사의 정밀한 저kV 플라즈마 FIB 밀링으로 전기적 특성을 보존합니다.
실패
현지화
![Delyering_icon-1](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/Delyering_icon-1.png?width=182&height=107&name=Delyering_icon-1.png)
효과적인 수동 전압 콘트라스트 이미징을 위해 설계된 소니의 정교한 렌즈 내 감지 기능으로 결함 격리를 간소화하세요.
자동화 지연
![Delyering_icon-2](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/Delyering_icon-2.png?width=192&height=135&name=Delyering_icon-2.png)
목표 계층에 대한 지연 처리를 자동화하는 지능형 TESCAN 지연 소프트웨어로 엔드포인트 결정을 간소화하세요.
전기
분석
![Delyering_icon-3](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/Delyering_icon-3.png?width=174&height=150&name=Delyering_icon-3.png)
호환 가능한 업계 최고의 나노 프로빙 솔루션을 사용하여 전기 고장에 대한 현장 검증 또는 특성화를 용이하게 합니다.
사용자
생산성
![12](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/12.png?width=159&height=137&name=12.png)
직관적인 테스캔 에센스 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 모든 전문 지식 수준의 사용자의 운영 효율성을 높일 수 있습니다.
테스칸 앰버 엑스 알아보기
지연을 위해
지연을 위한 테스캔 앰버 엑스의 장점
SEM 기반 나노 프로빙을 활용하여 다양한 반도체 노드에서 NMOS 및 PMOS 트랜지스터의 세부적인 특성을 분석하고 효과적인 지연을 위한 정밀한 레이어 타겟팅을 용이하게 합니다.
![img02 복사](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/img02%20kopie.png?width=476&height=476&name=img02%20kopie.png)
심층적인 SEM 기반 나노 프로빙
정교한 SEM 기반
나노 프로빙을 활용하여
22, 14, 10, 5nm를 포함한 다양한
반도체 노드 스펙트럼에서 NMOS 및 PMOS
트랜지스터를 정확하게
특성화할 수 있습니다.
![img01](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/img01.png?width=476&height=476&name=img01.png)
타겟 균일 지연
스택 내의 지정된 계층을 예리하게
식별하고 중단하는
고급 자동화를 통해 세심하고 균일한
지연을 달성하세요.
![img03 복사](https://ko.info.tescan.com/hs-fs/hubfs/img03%20kopie.png?width=476&height=476&name=img03%20kopie.png)
일관된 대용량 지연 처리
당사의 특수 '드릴형' 노즐을 사용하여 300 × 300 μm2의 넓은 영역에서 광범위하고 균일한 지연을 보장합니다.
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