지연을 위한 테스칸 앰버 X 2
유니폼
지연
10nm 미만 기술 노드에 최적화된 맞춤형 나노플랫 체이스 및 C-메이즈 가스 화학을 활용하여 아티팩트 없는 일관된 지연을 달성하세요.
장치
무결성
섬세한 시료 처리를 위해 불활성 Xe 이온을 사용하는 당사의 정밀한 저kV 플라즈마 FIB 밀링으로 전기적 특성을 보존합니다.
실패
현지화
효과적인 수동 전압 콘트라스트 이미징을 위해 설계된 소니의 정교한 렌즈 내 감지 기능으로 결함 격리를 간소화하세요.
자동화 지연
목표 계층에 대한 지연 처리를 자동화하는 지능형 TESCAN 지연 소프트웨어로 엔드포인트 결정을 간소화하세요.
전기
분석
호환 가능한 업계 최고의 나노 프로빙 솔루션을 사용하여 전기 고장에 대한 현장 검증 또는 특성화를 용이하게 합니다.
사용자
생산성
직관적인 테스캔 에센스 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 모든 전문 지식 수준의 사용자의 운영 효율성을 높일 수 있습니다.
테스칸 앰버 X 2 알아보기
지연을 위해
지연을 위한 테스캔 앰버 2의 장점
SEM 기반 나노 프로빙을 활용하여 다양한 반도체 노드에서 NMOS 및 PMOS 트랜지스터의 세부적인 특성을 분석하고 효과적인 지연을 위한 정밀한 레이어 타겟팅을 용이하게 합니다.
심층적인 SEM 기반 나노 프로빙
정교한 SEM 기반
나노 프로빙을 활용하여
22, 14, 10, 5nm를 포함한 다양한
반도체 노드 스펙트럼에서 NMOS 및 PMOS
트랜지스터를 정확하게
특성화할 수 있습니다.
타겟 균일 지연
스택 내 지정된 레이어를 지능적으로 식별하고 중단하는 고급 자동화를 통해 세심하고 균일한 지연을 달성할 수 있습니다.
일관된 대용량 지연 처리
당사의 특수 '드릴형' 노즐을 사용하여 300 × 300 μm2의 넓은 영역에서 광범위하고 균일한 지연을 보장합니다.